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真空镀膜设备

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磁控溅射镀膜设备


  真空镀膜具有以下特点:
  高电阻负。真空镀膜后的RT量大大减少。镀铝前后阻隔性能与老化2、15和CPP的比较
  在软包装中,使用较广的镀铝膜是PM和CPP渗铝膜,分为普通真空镀铝膜和增强渗铝膜两种。
  普通真空渗铝膜是一种在高真空状态下将蒸气沉淀并堆积在基膜上的薄膜。渗铝层厚度一般在3边左右(如某企业标推要求,镀铝层厚度为350Ai8%)。8%)。真空渗铝膜不但具有原基膜的力学性能,而且具有较强的装饰性和较好的阻隔性。
  渗铝后的蒸汽和氧气透过率和透光率大大降低,可用作较好的阻隔材料。