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真空镀膜设备

科技创新为动力 专业服务为目标
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产品概述
       多弧离子镀膜机是近年新开发的真空离子镀膜技术,利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术,是先发展起来的真空镀膜方式,具有沉积速率高快,结合牢固,设备运行稳定等优点,我公司在传统多弧的基础上,封靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计,提高了离化率,细化颗粒,膜层和基材结合牢固,膜层更加致密,硬度耐磨性提高,适用于镀制装饰膜如:金色的氮化钛,黑色碳化钛,七彩的氮氧化钛等,亦可镀防腐触膜(如AL、Cr不锈钢及TIN等)和耐磨膜。膜层与基底结合牢固,适合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的发展前景。

技术参数
设备型号 VLT-800型 VLT-1000型 VLT-1200型
镀膜室尺寸 800×1250 1000×1200 1200×1500
极限真空度 ≤4×10-4pa
抽气时间 从大气抽至6.6×10-2Pa<10min
电弧源 6个(2KW/个) 8个(2KW/个) 6个(2KW/个)
直流负偏压 0-1000V 10A
0-500   20A
0-1000V 12A
0-500   25A
0-1000V 20A
0-500   30A
工件尺寸 6轴(220×800) 6轴(250×1000) 6轴(280×1300)
加热功率 15KW 20KW 25KW
总功率/平均功率 40KW/25KW 50KW/30KW 58KW/35KW
磁控靶(平面或圆柱靶) 10KW 15KW 20KW
气体质量流量控制仪 三路 三路 三路

设备特性
       生产同期:生产同期短-270sec/1同期(干燥无大量放气产品条件)
       镀膜材料:通用于各种金属镀膜(铝、镍、铜、铬……等金属材料)
       镀膜方式:金属溅射镀膜,膜厚分布均匀
       镀膜品质:亮度高、附着力强
       镀膜速度:两个20Kw大功率磁控制溅射电机,可以调动功率来控制镀膜速度
       除湿能力:真空室内装有雩下140度以下的低温冷冻系统,充分吸收湿气提高真空到达速度
       运营费用:溅射电极是自行开发产品,大大提高了靶材的使用效率
       占地面精:在固定位置进行上料和下料只要很小的操作空间
       操作方法:人机界面可以直观的进行设置和监控,设有管理密码无关人员无法更改
       售后服务:设有售后服务中心和配件仓库,可以快速处理使用中的问题

设备原理图示
       在适当的真空环境下,接通高压电源,在蒸发源与基片间建立一个低压气体放电的低温等离子区,基片电极上接直流负高压,从而形成辉光放电阴极,镀料气化原子进入此区域与惰性气体离子及电子发生碰撞,离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面,将蒸发物或其反应物沉积在积片上。

离子镀膜原理图